据中国化工报，华东理工大学副教授庄黎伟、美国约翰霍普金斯大学教授迈克尔·萨帕希斯领衔的国际合作团队，提出了一种间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架（aZIF）薄膜的方法，实现了薄膜沉积速率和厚度的可控，并进行了电子束光刻和超越极紫外光刻验证。相关研究近日发表于《自然—化学工程》。

　　据介绍，近年来，aZIF薄膜被用作先进光刻胶。实现aZIF薄膜的大面积、高精度可控制备，对相关领域的先进光刻工艺具有重要意义。在前期基于超稀释前驱体溶液赋能化学液相沉积法制备aZIF薄膜策略的基础上，研究团队提出了制备aZIF薄膜的新方法。经过系列实验和仿真，研究团队得到了薄膜沉积的本征速率，并揭示了薄膜沉积均匀性的关键影响因素。

光刻胶的应用领域主要涵盖半导体、面板产业和PCB等产业，主要用于光刻工艺中形成精细图案。在半导体领域，由于涉及超精细图案化、高分辨率、高灵敏度等技术，技术含量最高，因此对光刻胶的要求也更高。根据全球市场调查机构QYResearch报告，光刻胶市场长期被东京应化、信越化学、JSR、富士胶片等国际巨头垄断。近年来，受诸多因素影响，我国加快半导体自主可控步伐，产业链上下游多个环节实现技术的重大突破。

　　随着中国半导体厂商的强势崛起以及下游需求的扩大，光刻胶作为半导体产业的重要环节，其规模也迎来显著增长。据锐观产业研究院报告，2023年我国光刻胶市场规模约109.2亿元，2024年增长至114亿元以上，KrF光刻胶等中高端产品国产替代进程加快，预计2025年光刻胶市场规模可达123亿元。

　　根据公司经营业务以及自身在投资者关系互动平台的披露，A股市场布局半导体光刻胶业务的公司有上海新阳、南大光电、聚光科技等20家，这些公司中既有属于半导体产业链上下游公司，也有公司的子公司或参股公司参与半导体光刻胶业务。

　　举例来看，联合化学今年7月宣布完成对卓光芮的战略投资。投资标的主要开展投影式曝光机的研发，主要用于将掩模版（光罩）上的精细电路图形，通过光学投影的方式，精确地缩小并曝光转移到涂有光刻胶的硅片（晶圆）表面。

　　东材科技与韩国Chemax公司、上海种亿化学共同投资设立成都东凯芯半导体材料公司，重点开展高端光刻胶所需单体、光酸、树脂等的合成和纯化业务，目前处于试生产和推广应用阶段。

　　上海新阳表示，公司KrF光刻胶已有多款产品实现批量化销售，光刻胶产品整体销售规模持续增加，ArF浸没式光刻胶已有销售订单。

　　鼎龙股份无氟光敏聚酰亚胺（PFAS Free PSPI）、黑色光敏聚酰亚胺（BPDL）、薄膜封装低介电材料（LowDKINK）、PI取向液等新产品的开发、验证持续推进;半导体先进封装材料及高端晶圆光刻胶业务的产品开发、验证评价及市场拓展也在按公司预期进度快速推进中。